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제목 5월3주차_관세무역뉴스_정부, ‘K-반도체 전략’ 발표 “세계 최대 ‘K-반도체 벨트’ 조성한다”
글쓴이 관리자 작성일 2021-05-24 09:05:16
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수정일
2021-05-24 09:05:16

정부, ‘K-반도체 전략’ 발표

“세계 최대 ‘K-반도체 벨트’ 조성한다”

기업들 10년간 510조원 이상 투자해 반도체 초격차 유지
정부, 세제·금융·인프라 등 전방위 지원 패키지 제공

 

 

정부가 K-반도체 공급망 안정화를 위해 세계 최대·최첨단 ‘K-반도체 벨트’를 조성한다. 또 SK하이닉스·삼성전자 등 153개 기업이 10년간 510조원 이상을 투자해 반도체 초격차를 유지하겠다고 밝혔다.

 

정부는 5월 13일 ‘K-반도체 전략 보고대회’를 열고 이같은 내용을 골자로 한 ‘K-반도체 전략’을 발표했다. 

 

우리나라 수출의 20%를 차지하고 있고, 9년째 수출 1위인 반도체 산업은 최근 ‘전략무기’로 부각돼 반도체 경쟁에서 우리 반도체 산업이 경쟁력을 확보하기 위해 국내 반도체 제조 인프라 구축을 위한 민·관의 공동 대응 필요성이 대두되면서 전략 대책이 마련됐다. 

 

먼저 반도체 공급망 안정화를 위해 ‘K-반도체 벨트’를 조성한다. 

 

K-반도체 벨트는 판교와 기흥-화성-평택-온양의 서쪽, 이천-청주의 동쪽이 용인에서 연결돼 완성된다. 

 

첨단 메모리 제조 시설 증설 및 고도화를 통해 우리나라가 강한 메모리 초격차를 유지할 계획이다. 

 

또 글로벌 경쟁사보다 상대적으로 약한 파운드리는 신·증설을 추진한다. SK하이닉스의 경우 현재 대비 2배 수준의 8인치 파운드리 생산능력 확보를 검토하고 있다. 

 

또 소재·부품·장비는 용인 반도체 클러스터의 대규모 반도체 팹과 소재·부품·장비 기업을 연계·집적해 소재·부품·장비 특화단지를 조성하며, 판교의 경우 시스템반도체 설계지원센터, 인공지능(AI)반도체 혁신설계센터, 차세대 반도체 복합단지 등을 조성해 한국형 팹리스 밸리로 조성할 계획이다. 

 

이어 정부는 반도체 제조 중심지 도약을 위해 세제혜택, 기반 시설 지원 등 인프라 투자를 확대한다. 

 

핵심기술 확보, 양산시설 확충 촉진을 위해 ‘핵심전략기술(가칭)’을 신설해 연구개발(최대 40~50% 공제) 및 시설투자(최대 10~20% 공제) 세액공제를 대폭 강화한다. 

 

올 하반기~2024년 투자분이 적용되며, 연구개발은 최대 40~50%, 시설투자는 최대 10~20% 공제한다.

 

또 8인치 파운드리 증설, 소재·부품·장비 및 첨단 패키징 시설 투자 지원을 위해 1조원+α 규모의 ‘반도체 등 설비투자 특별자금’을 신설한다. 특별자금은 우대금리 1%p 감면, 대출 기간은 5년 거치 15년 분할상환 조건이다.

 

화학물질, 고압가스, 온실가스, 전파응용설비 등 반도체 제조 시설 관련 규제를 완화할 방침이다. 

 

이와 함께 기반 구축을 위해 용인·평택 등 10년치 반도체 용수물량 확보하고, ‘핵심전략기술(가칭)’ 관련 반도체 제조 시설의 전력 인프라 구축 시 정부·한전이 최대 50% 범위 내 공동 분담을 지원한다.

 

인력양성·관리 강화, 기업 간 연대 및 협력 활성화 등을 통해 반도체 성장기반을 확보할 방침이다. 

 

이를 위해 반도체 대학 정원을 확대하고 학사, 석·박사, 실무교육 등 全 주기 지원으로 10년간 (2022~2031년) 반도체 산업인력 3만 6,000명을 육성한다. 

 

시스템반도체 융합 얼라이언스 연대·협력 협의체를 통해 4차 산업혁명의 핵심 수요산업과 협력을 확대하며, 소재·부품·장비 중소기업과 소자 대기업 간 연대·협력과제를 발굴해 확대할 방침이다. 

 

기업 활동을 전방위로 지원하기 위해 국회·관계부처 협의로 반도체 특별법을 논의한다. 반도체 특별법에는 규제특례, 인력양성, 기반 시설 지원, 신속 투자 지원, R&D 가속화 방안 등이 종합적으로 고려될 것으로 보인다.

 

이와 함께 중장기적으로 미래차 핵심 반도체 공급망 내재화를 추진하며, 친환경 공정가스 및 고효율 온실가스 배출 제어장치 관련 R&D 및 반도체 디스플레이 친환경 가스 개발 및 공정 인증기술 등을 추진해 온실가스 감축에도 대응할 방침이다.


출처 - custra

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